هذه المقالة يتيمة. ساعد بإضافة وصلة إليها في مقالة متعلقة بها

ترسيب بالرش المهبطي

من ويكيبيديا، الموسوعة الحرة
اذهب إلى التنقل اذهب إلى البحث
مخطط جهاز الترسيب بالرش المهبطي

الترسيب بالرش المهبطي (Sputter Deposition) وهي تقنية تستخدم في صناعة مواد أقراص التخزين الجديدة وتحديداً أشرطة التخزين المغناطيسية وأفلام التخزين الرقيقة المفرغة، وتنطوي هذه العملية في إطلاق أيونات الأرغون على ركيزة من فيلم البوليمر مما يؤدي إلى إنتاج طبقات من جزيئات الكريستال المغناطيسي.[1][2][3]

اقرأ أيضاً[عدل]

مراجع[عدل]

  1. ^ J.A. Thornton (1974). "Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings". Journal of Vacuum Science and Technology. 11: 666–670. Bibcode:1974JVST...11..666T. doi:10.1116/1.1312732. 
  2. ^ B. A. Movchan & A. V. Demchishin (1969). "Study of the structure and properties of thick vacuum condensates of nickel, titanium, tungsten, aluminium oxide and zirconium dioxide". Phys. Met. Metallogr. 28: 83–90. 
  3. ^ Newbery, Dale.؛ وآخرون. (1986). Advanced Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis. Plenum Press. ISBN 0-306-42140-2. 


Icon-gears.png
هذه بذرة مقالة عن موضوع تقني بحاجة للتوسيع. شارك في تحريرها.