تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة: الفرق بين النسختين

اذهب إلى التنقل اذهب إلى البحث
ط
بوت:الإبلاغ عن رابط معطوب أو مؤرشف V5.1
ط (بوت:إضافة مصدر (1.2)، إزالة وسم مصدر)
ط (بوت:الإبلاغ عن رابط معطوب أو مؤرشف V5.1)
 
'''تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة''' {{إنج|Wide angle X-ray scattering WAXS}} هو تقنية من تقنيات [[حيود الأشعة السينية]] التي تستخدم غالبا لدراسة التركيب البلوري [[مبلمر|للمكثورات]].<ref>{{استشهاد ويب| مسار = https://academic.microsoft.com/v2/detail/156866015 | عنوان = معلومات عن تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة على موقع academic.microsoft.com | ناشر = academic.microsoft.com| مسار أرشيف = https://web.archive.org/web/20201021030201/https://academic.microsoft.com/v2/detail/156866015 | تاريخ أرشيف = 21 أكتوبر 2020 }}</ref> وتقوم هذه التقنية على تحليل [[ذرى براغ]] المبعثرة بزوايا كبيرة، والتي تنتج (وفقا ل[[قانون براغ]]) عن البنى الدقيقة ذات مقياس تحت النانومتر.
 
وتبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة هي نفس تقنية [[تبعثر الأشعة السينية بزاوية صغيرة]] وتختلف فقط بأن المسافة بين العينة واللاقط أقصر ويمكن بذلك ملاحظة الحيود عند زوايا أكبر.

قائمة التصفح