تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة: الفرق بين النسختين

من ويكيبيديا، الموسوعة الحرة
[مراجعة غير مفحوصة][مراجعة غير مفحوصة]
تم حذف المحتوى تمت إضافة المحتوى
تدقيق الترجمة
سطر 1: سطر 1:
'''تشتت الزاوية الكبير للأشعة السينية''' "Wide angle X-ray scattering WAXS" هو تقنية لدراسة تشتت [[أشعة سينية|الأشعة السينية]] تستخدم غالبا لدراسة التركيب البللوري لل[[بوليمر]]ات. وهذه التقنية ترجع بالتحديد لتحليل [[قمم براج]] المتشتتة لزاويا كبيرة, والتي (طبقا ل[[قانون براج]]) عندما تحدث فإنها تكون بسبب التركيبات الدقيقة.
'''تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة''' {{إنج|Wide angle X-ray scattering WAXS}} هو تقنية من تقنيات [[حيود الأشعة السينية]] التي تستخدم غالبا لدراسة التركيب البلوري [[مكوثر|للمكوثرات]]. وتقوم هذه التقنية على تحليل [[ذرى براغ]] المبعثرة بزوايا كبيرة، والتي تقتضي (وفقا ل[[قانون براغ]]) أنها نتيدو البنى بمقياس تحت النانومتر.


وهذا المصطلح غالبا ما يستخدم مع [[تشتت الزاوية الصغير للأشعة السينية]] لتحديد نوع التشتت.
وهذا المصطلح غالبا ما يستخدم مع [[تشتت الزاوية الصغير للأشعة السينية]] لتحديد نوع التشتت.
سطر 5: سطر 5:
==شاهد أيضا==
==شاهد أيضا==
*[[تحليل بللوري بالأشعة السينية]]
*[[تحليل بللوري بالأشعة السينية]]

{{بذرة علوم}}

{{غير مصنفة|يوليو 2009}}


[[en:Wide angle X-ray scattering]]
[[en:Wide angle X-ray scattering]]

نسخة 22:40، 2 أكتوبر 2009

تبعثر الأشعة السينية بزاوية كبيرة (بالإنجليزية: Wide angle X-ray scattering WAXS)‏ هو تقنية من تقنيات حيود الأشعة السينية التي تستخدم غالبا لدراسة التركيب البلوري للمكوثرات. وتقوم هذه التقنية على تحليل ذرى براغ المبعثرة بزوايا كبيرة، والتي تقتضي (وفقا لقانون براغ) أنها نتيدو البنى بمقياس تحت النانومتر.

وهذا المصطلح غالبا ما يستخدم مع تشتت الزاوية الصغير للأشعة السينية لتحديد نوع التشتت.

شاهد أيضا