طباعة حجرية نانوية: الفرق بين النسختين

من ويكيبيديا، الموسوعة الحرة
تصفح التاريخ تفاعلياً
[نسخة منشورة][نسخة منشورة]
→ التعديل السابقالتعديل اللاحق ←
تم حذف المحتوى تمت إضافة المحتوى
مرئينص الويكي
سطر 1: سطر 1:
'''طباعة حجرية نانوية'''
{{الكترونيات نانوية}}
{{الكترونيات نانوية}}
'''يشير مصطلح 'الطباعة الحجريةالنانوية'''{{إنج|Nanolithography}}إلى عملية تصنيع الهياكل والأجسام على المستوى النانوي، ونقصد بتلك الهياكل كل النماذج ذات أحد الأبعاد الجانبية على الأقل يتراوح حجمها بين ذرةٍ واحدةٍ و100 نانومتراً تقريباً. حيث تستخدم الطباعة الحجرية النانوية في أثناء عملية تصنيع [[دارة متكاملة|دارات]] أشباه الموصلات المتكاملة {{إنج|semiconductor integrated circuits}} ([[دائرة النانو|دوائر النانو]]) {{إنج|nanocircuitry}} أو في تصنيع [[نظم كهروميكانيكية نانوية|الأنظمة النانوية الكهروميكانيكية]] {{إنج|nanoelectromechanical systems}}.
الطباعة الحجرية النانوية {{إنج|Nanolithography}} و هو [[مصطلح]] له علاقة ب[[تقنية النانو]] يشير إلى تصنيع [[هياكل]] ذات أحجام على مستوى ال[[نانومتر]]، و هذه الهياكل تكون مكونة من أبعاد واحد منها على الاقل يكون قياسه حوالي 100 نانومتر. الطباعة الحجرية النانوية تستخدم في مجال تصنيع في [[أشباه الموصلات]] الرائدة و المتطورة و الدوائر المتكاملة و كذلك [[نظم كهروميكانيكية نانوية|النظم الكهروميكانيكية النانوية]].
والطباعة الحجرية النانوية يمكن أن تعرف باختصار على أنها فرع من فروع [[تقنية النانو]]، والذي يتناول دراسة و تطبيق و تصنيع هياكل النانو مثل دوائر أشباه الموصلات.
و قد أصبح هذا الفرع و منذ عام 2007، مجالا نشطا للغاية في الأوساط الأكاديمية والبحثية و كذلك في مجال ال[[صناعة]].


ومن ثم تمثل الطباعة الحجرية النانوية ذلك الفرع من [[تقانة الصغائر]]، والذي يتناول دراسة وتطبيق الهياكل النانوية ومنها دارات أشباه الموصلات {{إنج|semiconductor circuit}}.
⚫
== الطباعة الحجرية الضوئية ==
⚫
== تقنيات أخرى للطباعة الحجرية النانوية ==
⚫
== طريقة من أسفل إلى أعلى ==
== اقرأ أيضا ==
* [[مرسام النانو]]


حيث اصبح مجال الطباعة النانوية الحجرية مجالاً خصباً وثرياً للبحث الأكاديمي والصناعي منذ عام 2007 م.
⚫
== وصلات خارجية ==
== المراجع ==


⚫
==الطباعة الحجرية البصرية==
{{بذرة تقانة نانوية}}
{{رئيسي|طباعة حجرية ضوئية}} {{إنج|Photolithography}}
للطباعة الحجرية البصرية، وهي ذلك النموذج التقني السائد منذ ظهور عصر أشباه الموصلات، القدرة على إنتاج نماذجٍ ثانويةٍ بمقياس 100 نانومتر من خلال استخدام أطوال الموجة القصيرة جداً very short wavelengths (وحالياً وصلت مقاييس تلك النماذج إلى 193 نانومتر). إلا أن الطباعة النانوية البصرية ستتطلب استخدام تقنيات [[غمر الطباعة النانوية|غمر السائل]] {{إنج|immersion lithography}} وحشد لتعزيز [[تصوير بالرنين المغناطيسي#الوضوح|الإنحلال]] ([[قناع المرحلة المؤقتة]] {{إنج|phase-shift mask}}، [[تصحيح التقارب الضوئي]] {{إنج|optical proximity correction}}) عند عقدة الـ 32 نانومتر. كما يعتقد معظم الخبراء أن الطباعة الحجرية البصرية التقليدية لن تكون مؤثرة التكاليف عندما تقل عن 22 نانومتر. حيث أنه عند تلك النقطة، يمكن أن يحل محلها أساليب تقانة [[الجيل الجديد للطباعة الحجرية]] {{إنج|next-generation lithography}}.
⚫
==أساليب أخرى لتقانة الطباعة الحجرية النانوية==
*قد تمتد ''' [[طباعة حجرية بأشعة إكس|الطباعة النانوية بأشعة إكس]] ''' {{إنج|X-ray lithography}} لتشمل [[احلال بصري|إحلالاً بصرياً]] {{إنج|an optical resolution}} على مقياس 15 نانومتر من خلال استخدام أطوال الموجة القصيرة لـ واحد نانومتر وذلك بهدف الإنارة. ويتم تنفيذ هذا من خلال استخدام نهج طباعةالتقريب {{إنج|proximity printing approach}}. كما تم تطوير هذا الأسلوب إلى مدى معالجة الكمية. حيث يعتمد إمتداد تلك الطريقة على أشعة إكس الخاصة بالمجال القريب الموجود [[حيود فريسنل|بحيود فرينسل]] {رإنج|Fresnel diffraction}}: حيث تعد صورة feature القناع الواضحة "مصغرة" من خلال التقرب من الرقاقة القائمة بالقرب من "الحالة الحرجة". حيث تقرر هذه الحالة فجوة القناع للرقاقة {{إنج|mask-to-wafer gap}} وتعتمد على كلٍ من الحجم وصورة وضوح القناع بالإضافة إلى الطول الموجي. وهذه الطريقة بسيطة حيث أنها لا تتطلب استخدام عدساتٍ.

*طريقة pitch resolution enhancement والتي تعبر في الحصول على القبول تمثل عملية [[زخرفة مزدوجة|زخرفةٍ مزدوجةٍ]] {{إنج|double patterning}}. ويزيد هذا الأسلوب من كثافة الصورة من خلال طباعة صورةٍ جديدةٍ فيما بين الصور التي تم طباعتها مسبقاً على نفس الطبقة. وهي تعد طريقةً مرنةً نتيجة أن يمكن تعديلها لتستخدم لأي واجهةٍ أو أسلوب زخرفةٍ. وهنا يتم تقليل حجم الصورة من خلال استخدام أساليب الطباعة الغير حجرية ومنها [[تنميش|التنميش]] أو [[تنميش|الكشط]] {{إنج|etching}} أو الفواصل الجدارية {{إنج| sidewall spacers}}.

*ويتسم العمل على أداة '''[[طباعة حجرية غير مقنعة|الطباعة الحجرية الغير مقنعة]] ''' البصرية {{إنج| optical maskless lithography}} بالتقدم والتطور. حيث تستخدم تلك الأداة شعاع المرآه الدقيق الرقمي {{إنج| digital micro-mirror array}} بهدف التعامل أو التلاعب مع الشعاع المنعكس بدون الحاجة إلى قناعٍ متداخلٍ. إلا أن الإنتاجية بطبيعتها تكون منخفضةً، إلا أن التخلص من تكلفة الإنتاج المرتبط بالقناع – والتي تتزايد باطرادٍ مستمرٍ مع كل تقدمٍ تكنولوجيٍ جديدٍ- تعني أن مثل ذلك النظام قد يكون أكثر تأثيراً من ناحية التكلفة في حالة الإنتاج الصغير لدولة دوائر الفن، كما هو الحال في معامل الأبحاث، حيث لا تمثل إنتاجية الأداة أي إهتمامٍ هناك.

*إلا أن أكثر تقنية عامة للطباعة الحجرية النانوية تتمثل في '''[[طباعة الكتابة المباشرة بشعاع الإلكترون]] ''' {{إنج|Electron-Beam Direct-Write Lithography}}، والتي تقوم على استخدام شعاع الإلكترونيات بهدف إنتاج نموذج – والذي عادةً ما يستخدم في [[مقاومة الضوء|المقاومة البوليمرية]] ومنها مثلاً [[بولي ميثيل الميثاكريليت| Poly methyl methacrylate]] {{إنج| Poly methyl methacrylate}}.

*في حين تمثل '''[[الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية القصوى]] ''' {{إنج|Extreme ultraviolet lithography}} إحدى صور الطباعة الحجرية البصرية باستخدام أطوال الموجات فوق القصيرة (والتي تصل إلى 13.5 نانومتر). ومن ثم فهي تعد أكثر اساليب تقانة [[الجيل الجديد للطباعة الحجرية]] {{إنج|next-generation lithography}} شيوعاً.

*كما تعد '''الطباعة الحجرية باستخدام الجسيمات المشحونة''' {{إنج| Charged-particle lithography }}، و منها مثلاً الطباعة الحجرية بقذف الأيون أو الإلكترون {{إنج| ion- or electron-projection lithography}} (PREVAIL, SCALPEL, LEEPL)، إنتاج زخارفٍ ذات درجة صفاءٍ ودقةٍ عاليةٍ جداً. حيث تستخدم تقنية [[الطباعة الحجرية بأشعة الأيون]] {{إنج|Ion beam lithography}} الأشعة [[شعاع أيوني مركز|المركزة]] أو العريضة للأيونات النشطة خفيفة الوزن (ومنها He<sup>+</sup>) بهدف نقل الرسم إلى السطح. كما يمكن أن ينتقل استخدام الطباعة الحجرية باستخدام تقريب أشعة الأيون {{إنج| Ion Beam Proximity Lithography}} على المستوى النانوي على الأسطح الغير مستوية. <ref>Dhara Parikh, Barry Craver, Hatem N. Nounu, Fu-On Fong, and John C. Wolfe, "Nanoscale Pattern Definition on Nonplanar Surfaces Using Ion Beam Proximity Lithography and Conformal Plasma-Deposited Resist", Journal of Microelectromechanical Systems, VOL. 17, NO. 3, JUNE 2008</ref>

*في حين تستخدم '''[[لطباعة الحجرية باستخدام الجسيمات المحايدة]] {{إنج| Neutral Particle Lithography}} شعاعاً عريضاً من الجسيمات المحايدة النشطة بهدف نقل الزخرفة أو الرسم على السطح. <ref>J C Wolfe and B P Craver, "Neutral particle lithography: a simple
solution to charge-related artefacts in ion beam proximity printing", J. Phys. D: Appl. Phys. 41 (2008) 024007 (12pp)</ref>
*هذا وتعد '''[[الطباعة الحجرية بالبصمة النانوية]] '''{{إنج|Nanoimprint lithography}} وتنوعاتها المختلفة ومنها Step-and-Flash Imprint Lithography، LISA، و LADIمن تطبيقات تقنية الطباعة الحجرية النانوية الواعدة في مجال الزخرفة. كما يمكن وصل هذا الأسلوب مع تقنية [[الطباعة الحجرية بالاحتكاك]] {{إنج|contact printing}}.

*إلا أن '''[[الطباعة الحجرية باستخدام المسبار الماسح]] ''' {{إنج|Scanning probe lithography}} تعد أيضاً تقانةً واعدةً في مجال الزخرفة على المستوى النانوي العميق. وعلى سبيل المثال، يمكن التلاعب بالذرات الفردية من خلال استخدام [[مجهر مسح نفقي|مجهار المسح النفقي]] {{إنج|scanning tunneling microscope}}. مع ملاحظة أن [[الطباعة الحجرية بانغماس القلم]] {{إنج|Dip-Pen Nanolithography}} تعد أول تطبيقاً تجارياً متاحاً لتقنية الطباعة الحجرية باستخدام المسبار الماسح القائمة على [[مجهر القوة الذرية]] {{إنج|atomic force microscopy}}.

*تمثل '''[[الطباعة الحجرية النانوية باستخدام مجهر القوة الذرية]] {{إنج|Atomic Force Microscopic Nanolithography}} تقنية زخرفة السطح الكيميميكانيكية والتي تستخدم [[مجهر القوة الذرية]] {{إنج|atomic force microscopy}}.<ref>{{cite journal |author = R. C. Davis ''et al.'' |year = 2003 |title = Chemomechanical surface patterning and functionalization of silicon surfaces using an atomic force microscope |journal = Appl. Phys. Lett. |volume = 82 |issue=5 |pages = 808–810 |doi=10.1063/1.1535267}} [http://newsnet.byu.edu/story.cfm/42094 Related article]</ref>

*تقوم [[الطباعة الحجرية المغناطيسية]] {{إنج|Magnetolithography}} على وضع [[حقل مغناطيسي]] على الركيزة باستخدام أقنعة أو أغطية معدنية متوازية المغناطيسية يطلق عليها "قناع أو غطاء مغناطيسي". حيث يحدد القناع المغناطيسي والذي يعد مثيلاً أو نظيراً [[قناع ضوئي|للقناع الضوئي]] التوزيع المكاني وشكل المجال المغناطيسي الذي تم وضعه على الركيزة. في حين يمثل المكون الثاني جسيمات (حديدية ممغنطة) نانوية عالية الإنفاذية (نظير [[مقاوم ضوئي|للمقاوم الضوئي]]) والتي يتم تجميعها على سطح الركيزة وفقاً للمجال الناجم عن القناع أو الغطاء المغناطيسي.

⚫
==طريقة "من أسفل إلى أعلى"==
*تستخدم [[الطباعة الحجرية باستخدام الكرة النانوية]] كرات [[طبقات أحادية ذاتية التجميع|الطبقات الأحادية ذاتية التجميع]] (والتي غالباً ما تكون مصنعة من [[متعدد الستيرين|البوليسترين]]) كأقنعة التبخر. وقد استخدمت تلك الطريقة لتصنيع مصفوفات نقاط الذهب النانوية ذات الفراغات المضبوطة بدقة. <ref>{{cite journal |author = A. Hatzor-de Picciotto, A. D. Wissner-Gross, G. Lavallee, P. S. Weiss | title = Arrays of Cu(2+)-complexed organic clusters grown on gold nano dots | journal = Journal of Experimental Nanoscience | year = 2007 | volume = 2 | pages=3–11 |url=http://www.alexwg.org/JExpNanosci2007.pdf | doi = 10.1080/17458080600925807 |format = {{dead link|date=June 2010}}}}</ref>

ومن المحتمل أن تسود طرق [[تجميع ذاتي جزيئي|التجميع الذاتي الجزيئي]] {{إنج|molecular self-assembly}} كتقنية الطباعة الحجرية النانوية الأولية، وذلك بسبب التعقيد المتزايد باستمرار للطرق "من أعلى إلى أسفل" المسجلة بالأعلى. وهنا تم تطبيق استخدام التجميع الذاتي لخطوط الكثافة الأقل من 20 نانومتر عرضاً في ثقوب أو الخنادق الضخمة المزخرفة مسبقاً. <ref>{{cite journal |author=Sundrani D, Darling SB, Sibener SJ |title=Hierarchical assembly and compliance of aligned nanoscale polymer cylinders in confinement |journal=Langmuir |volume=20 |issue=12 |pages=5091–9 |year=2004 |month=June |pmid=15984272 |url=http://sibener-group.uchicago.edu/pubs/106.pdf |doi=10.1021/la036123p}}</ref> إلا أن درجة البعد وضبط التأصيل بالإضافة إلى منع إنبعاث الحرائق [[إنج| lamella merging}} ما زالت في حاجةٍ إلى أن يتم دراستها لتصبح اسلوب زخرفةٍ فعالٍ. كما أن القضية الهامة والمرتبطة بحدة حافة الخط تم التركيز عليها أيضاً من قِبَل هذا الأسلوب.

هذا وتعد نماذج التموج ذاتية التموج ومصفوفات النقاط المشكلة من تشتت الشعاع الأيوني منخفض الطاقة صورةً أخرى للطباعة الحجرية النانوية بطريقة من أعلى إلى أسفل. ويتم إيداع الأسلاك البلازمونية <ref>{{cite journal |author = T.W.H. Oates, A. Keller, S. Facsko, A. Muecklich | title = Aligned silver nanoparticles on rippled silicon templates exhibiting anisotropic plasmon absorption | journal = Plasmonics | year = 2007 | volume = 2 | pages=47–50 |url=http://www.springerlink.com/content/n17240g2lw7240x4/|doi=10.1007/s11468-007-9025-z }}</ref> plasmonic والممغنطة بالإضافة إلى الجسيمات النانوية على تلك النمذج عبر استخدام التبخر المنحرف.

==اطلع أيضاً==
*[[الطباعة الحجرية بالبصمة النانوية]] {{إنج|Nanoimprint lithography}}
*[[الطباعة الحجرية بالاحتكاك]] {{إنج|contact printing}}.
*[[زخرفة نانوية]] {{إنج|Nanopatterning}}
*[[ طباعة حجرية ضوئية]] {{إنج|Photolithography}}
*[[طبعة حجرية ناعمة]] [[إنج|Photolithography}}
*[[تصوير سائل]] [[إنج|Liquid imaging}}
*{{إنج|LIGA}}
*[[زخرفة بالحفر النانوي]] {{إنج|Patterning by etching at the nanoscale}}
*[[طباعة نانوية مغنطيسية]] {{إنج|Magnetolithography}}

⚫
==وصلات خارجية==
* [http://www.kostas.neu.edu جورج كوستاس مركز أبحاث التقانة والتصنيع النانوي ]
* [http://www.NILcom.org تسويق الطباعة الحجرية باستخدام البصمة النانوية (NIL)]
* [http://nanolithography.gatech.edu البطاعة الحجرية النانوية بجورجيا تيك]
* [http://www.nanolab.ucla.edu/ منشأة أبحاث إلكترونيات النانو بجامعة كاليفورنيا بلوس أنجلوس]
* [http://www.rhk-tech.com/results/nanografted_rings.php الخواتم المطعمة نانوياً بجامعة الولاية بلويزيانا]
* [http://www.rhk-tech.com/results/litho_dna.php ليثو إديت (LithoEdit) بجامعة كامبردج والكلية الملكية بلندن]
* [http://web.mit.edu/professional/short-programs/courses/nanostructure_fabrication.html دورة تدريبية قصيرة حول تصنيع الهياكل النانوية بمعهد ماساتشوستس للتكنولوجيا]

==المصادر==
{{ثبت_المراجع}}


{{طباعة حجرية نانوية}}
{{طباعة حجرية نانوية}}

نسخة 00:39، 4 سبتمبر 2010

جزء من سلسلة مقالات حول
إلكترونيات نانوية
إلكترونيات وحيدة الجزيئة
إلكترونيات الحالة الصلبة
مواضيع ذات صلة
شعار بوابة بوابة تقانة النانو

يشير مصطلح 'الطباعة الحجريةالنانوية(بالإنجليزية: Nanolithography)‏إلى عملية تصنيع الهياكل والأجسام على المستوى النانوي، ونقصد بتلك الهياكل كل النماذج ذات أحد الأبعاد الجانبية على الأقل يتراوح حجمها بين ذرةٍ واحدةٍ و100 نانومتراً تقريباً. حيث تستخدم الطباعة الحجرية النانوية في أثناء عملية تصنيع دارات أشباه الموصلات المتكاملة (بالإنجليزية: semiconductor integrated circuits)‏ (دوائر النانو) (بالإنجليزية: nanocircuitry)‏ أو في تصنيع الأنظمة النانوية الكهروميكانيكية (بالإنجليزية: nanoelectromechanical systems)‏.

ومن ثم تمثل الطباعة الحجرية النانوية ذلك الفرع من تقانة الصغائر، والذي يتناول دراسة وتطبيق الهياكل النانوية ومنها دارات أشباه الموصلات (بالإنجليزية: semiconductor circuit)‏.

حيث اصبح مجال الطباعة النانوية الحجرية مجالاً خصباً وثرياً للبحث الأكاديمي والصناعي منذ عام 2007 م.

الطباعة الحجرية البصرية

المقالة الرئيسة: طباعة حجرية ضوئية

(بالإنجليزية: Photolithography)‏

للطباعة الحجرية البصرية، وهي ذلك النموذج التقني السائد منذ ظهور عصر أشباه الموصلات، القدرة على إنتاج نماذجٍ ثانويةٍ بمقياس 100 نانومتر من خلال استخدام أطوال الموجة القصيرة جداً very short wavelengths (وحالياً وصلت مقاييس تلك النماذج إلى 193 نانومتر). إلا أن الطباعة النانوية البصرية ستتطلب استخدام تقنيات غمر السائل (بالإنجليزية: immersion lithography)‏ وحشد لتعزيز الإنحلال (قناع المرحلة المؤقتة (بالإنجليزية: phase-shift mask)‏، تصحيح التقارب الضوئي (بالإنجليزية: optical proximity correction)‏) عند عقدة الـ 32 نانومتر. كما يعتقد معظم الخبراء أن الطباعة الحجرية البصرية التقليدية لن تكون مؤثرة التكاليف عندما تقل عن 22 نانومتر. حيث أنه عند تلك النقطة، يمكن أن يحل محلها أساليب تقانة الجيل الجديد للطباعة الحجرية (بالإنجليزية: next-generation lithography)‏.

أساليب أخرى لتقانة الطباعة الحجرية النانوية

  • قد تمتد الطباعة النانوية بأشعة إكس (بالإنجليزية: X-ray lithography)‏ لتشمل إحلالاً بصرياً (بالإنجليزية: an optical resolution)‏ على مقياس 15 نانومتر من خلال استخدام أطوال الموجة القصيرة لـ واحد نانومتر وذلك بهدف الإنارة. ويتم تنفيذ هذا من خلال استخدام نهج طباعةالتقريب (بالإنجليزية: proximity printing approach)‏. كما تم تطوير هذا الأسلوب إلى مدى معالجة الكمية. حيث يعتمد إمتداد تلك الطريقة على أشعة إكس الخاصة بالمجال القريب الموجود بحيود فرينسل {رإنج|Fresnel diffraction}}: حيث تعد صورة feature القناع الواضحة "مصغرة" من خلال التقرب من الرقاقة القائمة بالقرب من "الحالة الحرجة". حيث تقرر هذه الحالة فجوة القناع للرقاقة (بالإنجليزية: mask-to-wafer gap)‏ وتعتمد على كلٍ من الحجم وصورة وضوح القناع بالإضافة إلى الطول الموجي. وهذه الطريقة بسيطة حيث أنها لا تتطلب استخدام عدساتٍ.
  • طريقة pitch resolution enhancement والتي تعبر في الحصول على القبول تمثل عملية زخرفةٍ مزدوجةٍ (بالإنجليزية: double patterning)‏. ويزيد هذا الأسلوب من كثافة الصورة من خلال طباعة صورةٍ جديدةٍ فيما بين الصور التي تم طباعتها مسبقاً على نفس الطبقة. وهي تعد طريقةً مرنةً نتيجة أن يمكن تعديلها لتستخدم لأي واجهةٍ أو أسلوب زخرفةٍ. وهنا يتم تقليل حجم الصورة من خلال استخدام أساليب الطباعة الغير حجرية ومنها التنميش أو الكشط (بالإنجليزية: etching)‏ أو الفواصل الجدارية (بالإنجليزية: sidewall spacers)‏.
  • ويتسم العمل على أداة الطباعة الحجرية الغير مقنعة البصرية (بالإنجليزية: optical maskless lithography)‏ بالتقدم والتطور. حيث تستخدم تلك الأداة شعاع المرآه الدقيق الرقمي (بالإنجليزية: digital micro-mirror array)‏ بهدف التعامل أو التلاعب مع الشعاع المنعكس بدون الحاجة إلى قناعٍ متداخلٍ. إلا أن الإنتاجية بطبيعتها تكون منخفضةً، إلا أن التخلص من تكلفة الإنتاج المرتبط بالقناع – والتي تتزايد باطرادٍ مستمرٍ مع كل تقدمٍ تكنولوجيٍ جديدٍ- تعني أن مثل ذلك النظام قد يكون أكثر تأثيراً من ناحية التكلفة في حالة الإنتاج الصغير لدولة دوائر الفن، كما هو الحال في معامل الأبحاث، حيث لا تمثل إنتاجية الأداة أي إهتمامٍ هناك.
  • كما تعد الطباعة الحجرية باستخدام الجسيمات المشحونة (بالإنجليزية: Charged-particle lithography )‏، و منها مثلاً الطباعة الحجرية بقذف الأيون أو الإلكترون (بالإنجليزية: ion- or electron-projection lithography)‏ (PREVAIL, SCALPEL, LEEPL)، إنتاج زخارفٍ ذات درجة صفاءٍ ودقةٍ عاليةٍ جداً. حيث تستخدم تقنية الطباعة الحجرية بأشعة الأيون (بالإنجليزية: Ion beam lithography)‏ الأشعة المركزة أو العريضة للأيونات النشطة خفيفة الوزن (ومنها He+) بهدف نقل الرسم إلى السطح. كما يمكن أن ينتقل استخدام الطباعة الحجرية باستخدام تقريب أشعة الأيون (بالإنجليزية: Ion Beam Proximity Lithography)‏ على المستوى النانوي على الأسطح الغير مستوية. [1]
  • تقوم الطباعة الحجرية المغناطيسية (بالإنجليزية: Magnetolithography)‏ على وضع حقل مغناطيسي على الركيزة باستخدام أقنعة أو أغطية معدنية متوازية المغناطيسية يطلق عليها "قناع أو غطاء مغناطيسي". حيث يحدد القناع المغناطيسي والذي يعد مثيلاً أو نظيراً للقناع الضوئي التوزيع المكاني وشكل المجال المغناطيسي الذي تم وضعه على الركيزة. في حين يمثل المكون الثاني جسيمات (حديدية ممغنطة) نانوية عالية الإنفاذية (نظير للمقاوم الضوئي) والتي يتم تجميعها على سطح الركيزة وفقاً للمجال الناجم عن القناع أو الغطاء المغناطيسي.

طريقة "من أسفل إلى أعلى"

ومن المحتمل أن تسود طرق التجميع الذاتي الجزيئي (بالإنجليزية: molecular self-assembly)‏ كتقنية الطباعة الحجرية النانوية الأولية، وذلك بسبب التعقيد المتزايد باستمرار للطرق "من أعلى إلى أسفل" المسجلة بالأعلى. وهنا تم تطبيق استخدام التجميع الذاتي لخطوط الكثافة الأقل من 20 نانومتر عرضاً في ثقوب أو الخنادق الضخمة المزخرفة مسبقاً. [5] إلا أن درجة البعد وضبط التأصيل بالإضافة إلى منع إنبعاث الحرائق [[إنج| lamella merging}} ما زالت في حاجةٍ إلى أن يتم دراستها لتصبح اسلوب زخرفةٍ فعالٍ. كما أن القضية الهامة والمرتبطة بحدة حافة الخط تم التركيز عليها أيضاً من قِبَل هذا الأسلوب.

هذا وتعد نماذج التموج ذاتية التموج ومصفوفات النقاط المشكلة من تشتت الشعاع الأيوني منخفض الطاقة صورةً أخرى للطباعة الحجرية النانوية بطريقة من أعلى إلى أسفل. ويتم إيداع الأسلاك البلازمونية [6] plasmonic والممغنطة بالإضافة إلى الجسيمات النانوية على تلك النمذج عبر استخدام التبخر المنحرف.

اطلع أيضاً

وصلات خارجية

المصادر

  1. ^ Dhara Parikh, Barry Craver, Hatem N. Nounu, Fu-On Fong, and John C. Wolfe, "Nanoscale Pattern Definition on Nonplanar Surfaces Using Ion Beam Proximity Lithography and Conformal Plasma-Deposited Resist", Journal of Microelectromechanical Systems, VOL. 17, NO. 3, JUNE 2008
  2. ^ J C Wolfe and B P Craver, "Neutral particle lithography: a simple solution to charge-related artefacts in ion beam proximity printing", J. Phys. D: Appl. Phys. 41 (2008) 024007 (12pp)
  3. ^ R. C. Davis؛ وآخرون (2003). "Chemomechanical surface patterning and functionalization of silicon surfaces using an atomic force microscope". Appl. Phys. Lett. ج. 82 ع. 5: 808–810. DOI:10.1063/1.1535267. {{استشهاد بدورية محكمة}}: Explicit use of et al. in: |author= (مساعدة) Related article
  4. ^ A. Hatzor-de Picciotto, A. D. Wissner-Gross, G. Lavallee, P. S. Weiss (2007). "Arrays of Cu(2+)-complexed organic clusters grown on gold nano dots" ([وصلة مكسورة]). Journal of Experimental Nanoscience. ج. 2: 3–11. DOI:10.1080/17458080600925807.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
  5. ^ Sundrani D, Darling SB, Sibener SJ (2004). "Hierarchical assembly and compliance of aligned nanoscale polymer cylinders in confinement" (PDF). Langmuir. ج. 20 ع. 12: 5091–9. DOI:10.1021/la036123p. PMID:15984272. {{استشهاد بدورية محكمة}}: الوسيط غير المعروف |month= تم تجاهله (مساعدة)صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
  6. ^ T.W.H. Oates, A. Keller, S. Facsko, A. Muecklich (2007). "Aligned silver nanoparticles on rippled silicon templates exhibiting anisotropic plasmon absorption". Plasmonics. ج. 2: 47–50. DOI:10.1007/s11468-007-9025-z.{{استشهاد بدورية محكمة}}: صيانة الاستشهاد: أسماء متعددة: قائمة المؤلفين (link)
مجلوبة من «https://ar.wikipedia.org/w/index.php?title=طباعة_حجرية_نانوية&oldid=5709074»