ترسيب فيزيائي للبخار

من ويكيبيديا، الموسوعة الحرة
اذهب إلى التنقل اذهب إلى البحث

الترسيب الفيزيائي للبخار (يرمز له اختصاراً PVD من Physical vapor deposition) هو وصف عام لعدد من طرق ترسيب البخار تحت التفريغ من أجل القيام بعملية تكوين طبقة سطحية رقيقة على سطح الركازات، وذلك بواسطة طرق فيزيائية مثل إجراء عملية تبخر عند درجات حرارة مرتفعة وتحت الفراغ مع إجراء عمليات تكثيف متتالية، أو القذف بالرش المهبطي للبلازما.

تجري عمليات الترسيب الفيزيائي للبخار دون حدوث تفاعل كيميائي على سطح الركازة. في حال حدوث هذا الأمر يصنف الترسيب على أنه ترسيب كيميائي للبخار.

يستخدم الترسيب الفيزيائي للبخار في مجال تصنيع نبائط أشباه الموصلات ومجال إضافة الأغشية الرقيقة المعدنية على أسطح المواد البلاستيكية.

أنواع الترسيب الفيزيائي للبخار[عدل]

يشمل الترسيب الفيزيائي للبخار كل من:

المراجع[عدل]

  1. ^ He، Zhenping؛ Kretzschmar, Ilona (6 December 2013). "Template-Assisted GLAD: Approach to Single and Multipatch Patchy Particles with Controlled Patch Shape". Langmuir. 29 (51): 15755–15761. doi:10.1021/la404592z. 
  2. ^ He، Zhenping؛ Kretzschmar, Ilona (18 June 2012). "Template-Assisted Fabrication of Patchy Particles with Uniform Patches". Langmuir. 28 (26): 9915–9919. doi:10.1021/la3017563. 
Midori Extension.svg
هذه بذرة مقالة بحاجة للتوسيع. شارك في تحريرها.